LTCCセラミック基板技術は、ファインセラミックス材料とマイクロ波厚膜の集積技術を用いて、複雑なマイクロ波とデジタル回路を3次元で集積する技術である。モノリシック集積技術の急速な発展に伴い、能動デバイスの集積度はかつてないレベルにまで高まっており、受動デバイスの集積度が重要となっている。ltcc技術は、抵抗、容量、インダクタ、フィルタ、カプラなどの受動部品の集積化要件を満たすことができます。
LTCC基板の抵抗はそれぞれ10オメガ・100オメガ・1 kオメガと10 kオメガです。表面抵抗調整法の精度は1%未満,内部抵抗の精度は30%未満です。他の受動デバイスは、関連する材料パラメータに従って設計することができます。ltcc基板は多層配線が可能で,最大40層まで可能である。
低温共烧陶瓷基板(LTCC PCB)
近年、セラミックス基板技術が急速に発展し、特に、伝統セラミックス基板の土台の上で、また発展した高温共焼きセラミックス基板と低温共焼きセラミックス基板、これによりセラミックス基板は出力回路高密度の組み立ての応用の、より深く、より幅広く応用された。低温共焼多層基板は,厚膜プロセスと高温共焼の利点を集約した新開発のマイクロ基板である。十数年の間に,この基板は急速に発展した。高密度・高速の回路基板として、コンピュータ、通信、ミサイル、ロケット、レーダーなどに広く使われている。例えば,米デュポン社はスティンガーミサイルの試験回路に低温共焼多層基板8層を採用した。富士通はマルチチップモジュールvp2000シリーズのスパコンを61層の低温で焼成し、necは78層の低温で多層基板面積225×225平方ミリを解雇した。1万4040個のi / o端末と100個の超大型集積チップを搭載できる。
低温共焼多層セラミックス基板(ltcc)は,複数の単一セラミックス基板から構成される。それぞれのセラミック基板は、セラミックス材料とセラミックス層に付着した導電回路で構成され、一般に導電帯と呼ばれる。セラミックス層の通孔内に導電材料を充填する。異なるセラミックス層の導波路線をつなぎ、3次元の回路網を形成する。集積回路チップは積層セラミックスの上に取り付けられる。集積ブロックは、多層セラミック基板内の回路とピンで半田付けされ、相互接続回路を形成する。セラミック基板は,焼結過程で表面に金属導電層が予め形成され,底部に針状の端子が設けられている。積層セラミックス基板を用いて微細な部品を高密度・高速・高信頼性の3次元構造に組み立てる手法である。
LTCCセラミックPCBの典型的な構造
LTCC PCBには、他のpcb技術と比較して多くの利点がある
1.セラミック材料は高周波、高速伝送、広帯域という優れた特性を有している。ltcc材料の誘電率は成分によって大きく変化する。導電性の高い金属材料を導体材料として使用することで、回路システムの品質ファクタを向上させ、回路設計の柔軟性を向上させることができる。
2.大電流、高温に対応し、通常のpcb回路基板よりも熱伝導性に優れています。電子機器の放熱設計を大幅に最適化し、信頼性が高く、過酷な環境に適用することができ、その寿命を延長する。
3.より高い層数の回路基板を作ることができ、受動部品を複数埋め込むことができ、部品パッケージのコストを回避できる。上層の3次元回路基板上では、能動集積と受動集積が可能となり、回路の組み立て密度を高め、さらに小型・軽量化が図れる。
4. ltccと薄膜配線技術を組み合わせるなど、他の多層配線技術との親和性が高く、ハイブリッド多層基板とハイブリッド多チップモジュールの組立て密度と性能向上を実現できる。
5.不連続生産プロセスは、完成品を作る前に、配線、配線孔の各層の品質検査を容易にし、多層基板の材料率と品質を向上させ、生産期間を短縮し、コストを削減します。
6.省エネ、省エネ、グリーン、環境保護部品産業の発展を止めることができない傾向になっている。ltccはまた、原料、廃棄物、生産過程による環境汚染を最大限に減らすことで、この発展の需要に応えている。
形:max.100mm× 100mm
線幅/ピッチ:最小0.075mm/0.15mm
印刷導体の厚さ:10 ~ 25 μm
印刷線幅精度:±10 μm
スタックアライメント精度:≦30 μm
貫通孔直径:最小0.1mm
焼結収縮精度:±0.2%
ワイヤと角形距離:最小0.2mm
金属貫通孔と管距離:最小0.15mm
抵抗/導体重複距離:最小0.15mm
抵抗寸法:最小0.15mm × 0.15mm
メディアレイヤ数≦40である
アプリケーション:フィルタpcb、デュプレックスpcb、ltccチップアンテナpcb
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